Thin-Film Deposition 薄膜沉積
RF 濺鍍與熱蒸鍍系統,支援薄膜沉積、表面改質及預鋰化製程。
Facilities & Capabilities
從薄膜製程、電池組裝到材料分析,支援能源材料的開發與驗證。
RF 濺鍍與熱蒸鍍系統,支援薄膜沉積、表面改質及預鋰化製程。
粉體製備、表面改質及共摻雜製程。
鋰/鈉化合物製備、複合固態電解質製作及鋰/鈉離子電池組裝。
CIGS 薄膜成長、成分與厚度控制,以及表面與界面後處理。
觀察電極形貌在操作過程中的變化。
分析粉體粒徑分布與分散情形。
循環伏安 CV、充放電 GCD、線性掃描 LSV、交流阻抗 EIS 等電化學性能量測。
半導體光學性質及載子復合行為分析。
貴重儀器中心設備;本實驗室提供技術諮詢。分析表面元素組成、化學態及鍵結,並支援 UPS、LEIPS 與深度分析。



儀器位置:工程四館材料所 127 室 (AES/ESCA)
實驗室技術諮詢:曾暄凱 Hsuan-Kai Tseng · a8911814@gmail.com 預約與官方管理窗口請見貴重儀器中心頁面。
官方儀器資訊與預約 →材料系共用儀器;本實驗室提供技術諮詢與管理。高解析觀察材料表面、元件、薄膜與剖面微結構。
儀器位置:材料科技館 R119
曾暄凱 · a8911814@gmail.com 蔡宗諺 · iantsai93@gmail.com
官方儀器資訊與預約 →